【BL-6,13,14】 |
| アスペクト比100のNi構造体 |
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| 製作条件 |
| 構造体 |
Ni（高さ200μm） |
| 導電層 |
Ti（膜厚0.05μm） |
| 電鋳浴 |
スルファミン酸Ni(37℃) |
| 電流密度 |
1.0A/dm2 |
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| ニードル形状の微細構造体 |
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| 製作条件 |
| 構造体 |
PMMA（高さ500μm） |
| 製作方法 |
平面パターン断面転写法 |
| ドーズ量 |
14.4Amin |
| 現像液 |
GG現像液（37℃） |
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| 直径1mmのマイクロワブルモータ |
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| 製作条件 |
| 構造体 |
Ni（高さ100μm） |
| 導電層 |
Ni（膜厚0.05μm） |
| 電鋳浴 |
スルファミン酸Ni(37℃) |
| 電流密度 |
3.0A/dm2 |
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| 自由曲面加工したPMMA構造体 |
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| 製作条件 |
| 構造体 |
PMMA（高さ100μm） |
| 製作方法 |
移動マスク+斜め照射(39℃) |
| ドーズ量 |
15Amin |
| 現像液 |
GG現像液（39℃） |
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