2001年度 4回生卒論発表プログラム

日時:2002年2月18日(月)
場所:F204

発表5分、質疑応答2分厳守(発表者が2人の場合、発表8分、質疑応答2分) ☆ベルは4分、5分、7分。

時間

タイトル

氏名 所属研究室 司会・担当
9:00 9:07 水素化アモルファスカーボンの引張過程における分子動力学シミュレーション 荒木 勉 磯野研 田畑研
(上村、雑賀)
9:07 9:14 オンチップ引張試験によるP型ピエゾ抵抗ワイヤの電気・機械特性評価 木内 万里夫
9:14 9:21 Power-MEMS材料用高温疲労試験機の開発 菊池 栄成
9:21 9:28 AFM陽極酸化加工を用いた単電子デバイスの開発 島津 朝子
9:28 9:35 血液検査用微小注射針の突き刺し試験評価 多田 順一
9:35 9:42 ナノスケールSiO2の中・常温域での機械的特性評価 萩原 孝明
9:42 9:49 マイクロマシニングのための単結晶シリコンのエッチングシュミレーション 畠井 文子
9:49 9:56 走査型プローブ顕微鏡内微小引張り試験装置の開発 藤井 智也
9:56 10:06 自動改札機内磁気ヘッドの摩耗メカニズム解明に関する研究 朴  鎬俊
村本 憲一
10:06 10:15

休 憩

10:15 10:22 X線リソグラフィー用マスク製作に関する研究 大井 康 田畑研 田畑研
(上村、雑賀)
10:22 10:29 DNA分析用ポリマーチップにおける接合技術とチャンネル底面粗さ改善に関する研究 木村 圭佑
10:29 10:36 SMA/SiO2バイメタルカンチレバーの応答性解析に関する研究 坂本 昇太郎
10:36 10:46 可変剛性積層フィルム構造体に関する研究 田中 直樹
中戸 天
10:46 10:53 XeF2エッチングにおける開口幅依存性と表面粗さの温度特性に関する研究 津田 創
10:53 11:00 電子ビーム露光によるサブミクロンパターン作製に関する研究 中島 隆志
11:00 11:07 X線リソグラフィーによる三次元微細加工に用いるステージシステムに関する研究 中村 雄志
11:07 11:14 シリコン結晶異方性エッチングシミュレーションに関する研究 馬場 教彰
11:14 11:21 X線吸収エネルギー計算プログラムに関する研究 平井 義和
11:21 11:28 自律振動ゲルを用いた人工繊毛アクチュエータに関する研究 古木 春彦
11:28 11:35 移動マスクX線露光法を用いたマイクロレンズアレイに関する研究 吉田 輸広
11:35 12:30

昼 休 み

12:30 12:37 静電吸着制御型圧電インチワーム機構を用いたX-Yリニアアクチュエータに関する研究 植澤 晴久 小西研 小西研
(宗近、若林)
12:37 12:44 マイクロパラレルリニアアクチュエータシステムの動作特性に関する研究 柾木 重郎
12:44 12:51 静電型鉛直動作マイクロアクチュエータに関する研究 川口 岳
12:51 12:58 特性可変機構を内蔵したチューナブル音響フィルタに関する研究 大月 彩
12:58 13:05 共鳴器吸音特性に対する前面壁構造パラメータの影響に関する研究 川崎 公嗣
13:05 13:12 バルーンアクチュエータによるフィルム間制御を用いた距離可変拘束要素デバイスに関する研究 川元 伸一郎
13:12 13:19 生体親和性を考慮した神経インタフェース電極デバイスに関する研究 塩見 健太郎
13:19 13:26 流量制御マイクロアクチュエータを備えた搬送ノズルユニットに関する研究 杉本 雅宏
13:26 13:33 細胞電気信号計測用デバイスに関する研究 牧之段 次郎
13:33 13:40 細胞電気信号計測用デバイスの改良 豊福 亮玄
13:40 13:47 マイクロラッチを用いたセンサ一体型引張試験機の設計 羽田 晴彦
13:47 13:54 直接描画技術による三次元表面への導電性微細構造物形成 簗田 将志
13:54 14:05

休 憩

14:05 14:12 ピエゾ抵抗型多軸力覚センサの試作に関する研究 佐藤 仁彦 杉山研 小西研
(宗近、若林)
14:12 14:19 静電マイクロアクチュエータを用いたマイクロミラーデバイスの設計に関する研究 東海林 志有
14:19 14:26 マイクロレシプロエンジン型パワージェネレータの設計に関する研究 橋本 圭嗣
14:26 14:33 LIGAプロセスにおけるパーマロイ電鋳に関する研究 深井 元樹
14:33 14:40 Fabrication of Polysilicon-Metal Thermopile for Micro Power Generator Abudullah Bin Muhammad
14:40 14:47 UV厚膜レジストによるマイクロコネクタの製作に関する研究 山田 勝樹
14:47

15:00
総括
終了☆

※注意事項

■パソコン、プロジェクター、レーザーポインタ等は各研究室で責任をもって用意すること
■必ず事前にパソコンに発表データを入れておくこと
■配布資料は休憩時間中に配っておくこと(自分の発表の直前に配ることのないように)
■時間のずれ込みが予想されるので迅速な行動を!