コース名 科目名 科目概要

 システムVLSI

 計算機システム特論  
 2003年度開講予定

 マイクロプロセッサ特論 マイクロプロセッサのアーキテクチャと実現技術について広く解説し、性能とコスト、実時間性と並列処理、ソフトウェアとハードウェア等、多面的に理解させることによって、実践的設計能力を身に付けさせることを目的とする。
 集積回路特論 現在のLSIの基本素子であるCMOS回路について、それにチップを集積するための設計方式について解説する。
 アナログLSI特論  
 2003年度開講予定

 システムLSI設計特論
         <STARC寄附講座>
2003年度開講予定。情報家電からITネットワークまで、現在社会を支えているVLSIの実践的な設計能力を身に付けさせることを目的とする。具体的には、ハードウエアとソフトウエアからなる複雑なシステムの機能と性能を満足させる設計の体系的学習である。

 高位言語ベースデザイン特論
       <STARC寄附講座>

2003年度開講予定。システム開発者から見て、魅力の高いSoC(高性能,低コスト,高信頼SoC)を作れる実践的手法を体系的に学習させ、企業にて差別化商品を生み出せる高度な専門設計技術を身に付けさせることを目的とする。
 知能機械特論 ロボットを含めた機械システムに高い知能を機能させるための基本的な考え方を述べるとともに、これらの知能を具体化させる種々の基本アルゴリズムを解説する。
 マシンビジョン特論 部品の微細化、高精度化、製品の信頼性確保、歩留まり向上、及び製造期間の短縮が生産上の重要な課題になっている。このような課題に応える高度自動化生産システムの実現に有用なビジョンセンシング技術を取り上げ、その構成技術と共に、システム構築上の課題と取り組み方についてシステム構築事例を通してまなぶことを目的とする。

 集積エレクトロニクス

 光電子デバイス特論  
 2003年度開講予定

 光電子材料工学特論 本科目では情報通信の鍵デバイスの基盤材料である半導体を中心に、光電子材料として必要な基礎事項の習得を図るとともに、最先端のトピックスも取り上げ、光電子材料の技術動向の理解を深める。
 半導体プロセス技術特論  
 2003年度開講予定

 先端プロセス技術特論  
 2003年度開講予定

 ナノ構造特論 クラスターから超微粒子に見られる現象を解説し、構造との関係をあきらかにする。
 薄膜物性特論
 2003年度開講予定

 放射光物理特論
 2003年度開講予定

 表面物理特論 正常表面・界面の形成とその構造解析及び電子状態解析の手法を理解するのが本講義の目的である。
 マイクロ加工学特論
 2003年度開講予定

 マイクロマシンデバイス特論 マイクロマシンのデバイス設計、製造技術の実際を学び、マイクロシステム技術の産業における位置付けを論ずる。
 マイクロマシンシステム特論
 2003年度開講予定

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