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低コストLSIのためのEB直描向け高精度LSIレイアウト技術

研究者氏名:
中村明博

研究内容:
EBとは電子ビームのことであり、そのEBによってLSIレイアウト(主にスタンダードセル)を書いた(露光した)際のパターン状態を検証するシミュレーションプログラムの作成を現在は行っている。EB直描の最大の弱点である近接効果という悪影響をうまくとりのぞいて、スタンダードセルを正確に描画できることを目指している。(近接効果を取り除く方法を総称して近接効果補正という)

また、シミュレーションの結果をもとに、パターンが太くなったり細くなったりしないようなスタンダードセルの設計することも研究テーマの1つである。

MATLABという科学技術計算用ソフトを使って、シミュレーションをしている様子

研究の感想:
LSIの研究室だからといって、プログラミングをしないわけではありません。私も、プログラムは不得意だったので、かなり苦労しながらプログラミングしました。しかし、これを通して結構自己解決能力がついたような気がします!
まだ、完全なものでないので、さらに良いものに仕上げて,スタンダードセルの改良の方にも手をつけて行く予定です!

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