理工学部の名西やす之（なにし やすし）教授が、2008年度「第2回応用物理学会フェロー表彰」を受賞されました。

応用物理学会は、応用物理を通して学術の振興、技術の発展による社会と産業への貢献、相互啓発と人材育成による教育貢献などを目指した23,000人以上の会員を要する組織。
「応用物理学会フェロー表彰」は、応用物理学会の継続的な活動を通じて、学術・研究における先駆的な業績、教育を通した人材育成における顕著な業績により、応用物理学の発展に多大の貢献をした研究者に贈られます。

今回の表彰された研究業績は、「化合物半導体の結晶成長と高周波デバイス応用の研究」。
授賞式は、2008年9月2日から開催された第69回秋季学術講演会において行われました。

■応用物理学会フェロー表彰 第2回受賞者紹介（応用物理学会）