• 2023/11/16
  • 【世界初】Phantom SVD(ファントム局所的気相成長)法で4インチSiウエハ上への二酸化ゲルマニウム(GeO₂)製膜に成功 ― 薄膜の大面積化実現に大きく前進 ―
  • 立命館大学広報課
  •  立命館大学総合科学技術研究機構の金子健太郎教授/RARA フェローとPatentix株式会社(所在地:滋賀県草津市、代表取締役:衣斐豊祐)は、共同で、二酸化ゲルマニウム(GeO₂)をPhantomSVD(ファントム局所的気相成長)法によって、4インチSiウエハ上に製膜することに世界で初めて成功しました。

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